Bahan Logam Pilihan Untuk Sistem Gas Ketulenan Tinggi: Keluli Tahan Karat

Bahan logam pilihan untuk sistem gas ketulenan tinggi: keluli tahan karat

Untuk memastikan prestasi produk cecair, kandungan komposisi bahan dan kawalan kekotoran adalah salah satu faktor utama, yang secara langsung mempengaruhi kemuluran, rintangan kakisan dan prestasi pasca kimpalan produk cecair selepas pemprosesan. 1. Chromium Cr - Kandungan Chromium Cr dengan rintangan pengoksidaan yang tinggi dan rintangan kakisan boleh memastikan pembentukan ketebalan lapisan kromium oksida pada permukaan keluli tahan karat dan meningkatkan rintangan kakisan. 2. Nikel Ni - menstabilkan struktur austenit dan mempunyai kemuluran yang tinggi. Kandungan Nikel Ni boleh menstabilkan struktur austenit dan memastikan kemuluran keluli tahan karat dalam julat suhu yang lebih luas dan media bendalir yang berbeza. 3. Karbon C - kakisan antara butiran. Kandungan karbon C rendah karbida boleh menghalang kakisan antara butiran dan menghalang pemendakan karbida selepas kimpalan. 4. Sulfur S - Prestasi kimpalan, kandungan sulfur S rendah dalam sulfida, dan pada masa yang sama, kandungan sulfur S dalam bahan berada dalam julat variasi yang sempit, untuk memastikan bentuk kimpalan berkualiti tinggi, tanpa kemurungan mahupun bonjolan, membentuk dinding dalaman kimpalan sebenar Penembusan lengkap adalah keperluan yang tidak dapat dielakkan untuk aplikasi ketulenan tinggi. Hanya kualiti kimpalan gred semikonduktor yang konsisten dapat memenuhi pengeluaran dan pembinaan kejuruteraan semikonduktor yang cekap dan berkualiti tinggi.

5. Mangan Mn - Kakisan pitting

Kerapuhan kandungan Mn mangan yang rendah boleh meningkatkan ketahanan keluli tahan karat terhadap kakisan pitting sambil memastikan kemuluran keluli tahan karat. Piawaian SEMI F20 menentukan komposisi kimia dan spesifikasi pemprosesan industri metalurgi untuk rod keluli tahan karat 316L, penempaan, penyemperitan, plat dan paip untuk aplikasi pembuatan semikonduktor untuk memenuhi aplikasi sistem pengedaran cecair am, ketulenan tinggi dan ultra tinggi ketulenan dalam semikonduktor. industri. Untuk mencapai kandungan kekotoran yang lebih rendah, berdasarkan AOD peleburan bahan tradisional (penyahkarburan oksigen argon), peleburan vakum VIM (peleburan induksi vakum) dan juga penapisan vakum VAR (peleburan semula arka vakum) dilakukan untuk menghilangkan karbon kekotoran yang tidak menguntungkan, sulfur secara beransur-ansur. , dan mangan untuk meningkatkan ketahanan kakisan dan prestasi kimpalan bahan keluli tahan karat untuk memenuhi keperluan aplikasi sistem cecair ketulenan ultra tinggi dalam industri semikonduktor. Untuk media proses yang lebih teruk, aloi khusus lain lazimnya ialah Aloi 22, aloi berasaskan nikel yang mengandungi Chromium Cr, Molibdenum Mo dan Tungsten W. Dengan kandungan besi yang lebih rendah daripada bahan logam lain, Aloi 22 menawarkan ketahanan yang luar biasa terhadap pengadukan, kakisan antara butiran. dan retakan kakisan tegasan sambil mengekalkan sifat kimpalan yang sangat baik.

Persekitaran Gnee